w88优德体育集团w88优德体育集团


w88.com优德官网

国产5nm蚀刻机已用于TSMC的5nm工艺中。

    作为世界领先的制造商,台积电的新技术正在不断发展。7Nm极紫外光刻工艺首次完成,5nm工艺将于2019年4月开始试制。

    然而,众所周知,半导体技术是一项综合性的高精度技术,新技术并非完全由TSMC自己完成,而是依赖于整个产业链的设备和技术供应,如荷兰ASML公司生产的熟悉的光刻机。

    据了解,在TSMC的5nm生产线上,将有一台自主开发的深圳中微半导体5nm等离子体刻蚀机,该刻蚀机最近通过了TSMC的验证。

    中微半导体与TSMC在28nm工艺生成中合作,10和7nm工艺仍在继续。现在他们已经成功地发展到最先进的5纳米工艺。

    据报道,等离子刻蚀机是芯片制造中的关键设备,主要用于芯片上的微雕刻。每条线和深孔的加工精度是毛发直径的千分之一到千分之一,对精度控制要求很高。

    例如,在微逻辑器件的16nm工艺中,有60多层微结构,只能通过1000多个工艺步骤和克服数以万计的技术细节进行加工。

    微半导体公司总裁尹志耀(音译)说:“在稻谷雕刻的微雕技术中,200字的雕刻能力有限,而我们的片上等离子刻蚀机的加工技术相当于在稻谷上雕刻10亿字的水平。”

    长期以来,刻蚀机的核心技术一直被国外厂商垄断,而微半导体和微半导体则从65nm的等离子体介质刻蚀机开始,从45、32、28、16和10nm一直走下坡路。7nm蚀刻机已经在客户生产线上运行,5nm蚀刻机很快将被TSMC采用。

    然而,应当特别注意这样一个事实,即用于微型和中型半导体的5nm蚀刻器并不意味着完全可以生产5nm芯片,因为蚀刻只是许多工艺中的一种。

    总体而言,我国半导体制造技术尤其是光刻技术存在较大差距,上海最好的微电子器件只有90nm的本土化。

    当然,另一方面,我们的半导体技术也在不同层面上赶超,缩小差距。例如,14纳米技术仍然非常先进。在14nm场中,华创北硅/金属蚀刻机、华创北薄膜沉积设备、华创北单片退火设备、上海生美清洗设备等已研制成功,并正在验证中。

    不久,中国芯片将屹立于世界之巅!

欢迎阅读本文章: 刘森

优德88客服

w88.com优德官网